問答題

【簡答題】PN結隔離的雙極集成電路工藝需要幾次光刻，每次光刻目的是什么？

答案：需要六次光刻
第一次—N+隱埋層擴散孔光刻；
第二次—P+隔離擴散孔光刻；<...

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【簡答題】伴隨一個橫向PNP器件產(chǎn)生兩個寄生的PNP晶體管，試問當橫向PNP器件在4種可能的偏置情況下，哪一種偏置會使得寄生晶體管的影響最大?

答案：當橫向PNP管處于飽和狀態(tài)時，會使得寄生晶體管的影響最大。

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答案：