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單項(xiàng)選擇題
不屬于面缺陷()。
A.相界面
B.位錯(cuò)
C.堆垛層錯(cuò)
D.亞晶界
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單項(xiàng)選擇題
方法不能獲得過飽和點(diǎn)缺陷()。
A.高溫淬火
B.冷變形
C.輻照
D.退火
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單項(xiàng)選擇題
實(shí)際晶體強(qiáng)度遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于理論強(qiáng)度的原因,是由于實(shí)際晶體中存在大量的()
A.晶界
B.亞晶界
C.空位
D.位錯(cuò)
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