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濕法腐蝕
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通過使用特定的溶液與需要被腐蝕的薄膜材料進行化學(xué)反應(yīng),進而除去沒有被光刻膠覆蓋區(qū)域的薄膜。
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閾值曝光量
答案:
使膠膜完全溶解所需最小的曝光量。
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使角膜開始溶解所需最小曝光量。
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