單項選擇題電沉積法制備金屬層時必須的設(shè)備是（）。
A、直流電源
B、攪拌裝置
C、過濾裝置
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1.單項選擇題化學(xué)鍍鎳中最常用的的還原劑是（）。
A.硼氫化鈉
B.次亞磷酸鈉
C.硼烷
2.單項選擇題與電鍍鎳相比，化學(xué)鍍鎳層有何優(yōu)異性（）。
A、鍍鎳層脆性大
B、沉積速度較慢
C、優(yōu)異的抗蝕性和耐磨性
3.單項選擇題生產(chǎn)中主要用什么方法除去鎳液中的有機雜質(zhì)？（）
A、攪拌去除
B、濾布過濾
C、雙氧水氧化再加活性炭
4.單項選擇題標準試劑的稱量采用分析天平靈敏度（）。
A、0.1mg
B、0.01mg
C、0.001mg
5.單項選擇題在鹽酸浸蝕液中加入烏洛托品是為了（）。
A、加速零件浸蝕
B、防止零件掛灰
C、防止產(chǎn)生過腐蝕
D、活化零件
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