20世紀(jì)上半葉對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)量展做出貢獻(xiàn)的4種不同產(chǎn)業(yè)主要是（）。

根據(jù)圖，給出M2管的漏極電流表達(dá)式。

版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么？

材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類（）。

試用電導(dǎo)率為102/（Ω·cm），厚1μm的材料設(shè)計1kΩ的電阻，設(shè)電阻寬1μm，求其長。

在晶體材料中，對于長程有序的原子模式最基本的實(shí)體就是（）。

目前集成電路版圖設(shè)計的主流工具有哪些？

在圖中，若所有的晶體管都工作在飽和區(qū)，畫出Vx從一個大的正值下降時Ix的草圖。

BiCMOS技術(shù)就是將（）和（）的優(yōu)良性能集中在同一塊集成電路器件中。BiCMOS綜告了CMOS結(jié)構(gòu)的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件結(jié)構(gòu)的高電流驅(qū)動能力。

集成電路電阻可以通過（）產(chǎn)生。