問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】何為分辨率、對(duì)比度、IC制造對(duì)光刻技術(shù)有何要求？

答案： 分辨率：是指一個(gè)光學(xué)系統(tǒng)精確區(qū)分目標(biāo)的能力
對(duì)比度：是評(píng)價(jià)成像圖形質(zhì)量的重要指標(biāo)
要求：分辨率越來(lái)越...
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問(wèn)答題

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答案： 工藝參數(shù)：雜質(zhì)種類、雜質(zhì)注入濃度、雜質(zhì)注入深度
設(shè)備參數(shù)：弧光反應(yīng)室的工作電壓與電流、熱燈絲電流、離子分離裝置...
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答案：

有離子源、磁分析器、加速器、掃描器、偏束板和靶室。
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