A.元器件參數(shù)所取數(shù)值的誤差
B.用戶使用環(huán)境條件變化形成的誤差
C.重復(fù)試驗(yàn)中的隨機(jī)誤差
D.產(chǎn)品制造過程中工藝條件變化形成的誤差
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.XR圖可適用于非正態(tài)的過程
B.XR有更高的檢出力
C.XR圖作圖更為簡便
D.XR圖需要更少的樣本含量
在X圖中,下列情況可判為異常()
UCL
A
B
CCL
C
B
A
LCL
A.連續(xù)3點(diǎn)中有2點(diǎn)落在中心線同一側(cè)的B區(qū)以外
B.連續(xù)15點(diǎn)落在中心線兩側(cè)的C區(qū)內(nèi)
C.連續(xù)9點(diǎn)落在中心線同一側(cè)
D.連續(xù)4點(diǎn)遞增或遞減
A.使用C控制圖最方便
B.也可以使用U控制圖,效果和C控制圖相同,但不如C控制圖方便
C.也可以使用p控制圖,效果和C控制圖相同,但不如C控制圖方便
D.使用np控制圖,效果和C控制圖相同
A.平均值和極差控制圖
B.累積和(CUSUM)控制圖
C.指數(shù)加權(quán)滑動平均(EWMA.控制圖
D.單值和移動極差控制圖
A.一個過程只有一個失效模式
B.增加檢測手段一般可以降低故障檢測難度
C.降低風(fēng)險(xiǎn)發(fā)生的頻度需要清除造成故障的原因
D.過程控制方法決定了失效的嚴(yán)重度
最新試題
過程的波動分為隨機(jī)波動和異常波動,以下是隨機(jī)波動的有()
作業(yè)分析時提高動作經(jīng)濟(jì)性的方法包括()
在抽樣之前先將總體劃分若干層次,然后在每個層中簡單隨機(jī)抽樣,這種抽樣方法屬于()
要比較兩臺設(shè)備的壽命,不能用來展示壽命分布中心和波動的圖形是()
實(shí)施頭腦風(fēng)暴討論會時,首先應(yīng)進(jìn)行創(chuàng)意討論,創(chuàng)意討論應(yīng)當(dāng)注重()
在過程FMEA分析中,描述過程要求未得到滿足的是()
以下哪項(xiàng)用于RPN(風(fēng)險(xiǎn)優(yōu)先數(shù))計(jì)算()
為保持改善成果,常見的控制措施有()
要分析影響切割尺寸的各種原因,適用的工具是()
表示一組數(shù)據(jù)大小的指標(biāo)有()