A.輔料無干擾,晶型不變不宜采用紅外鑒別
B.輔料無干擾,晶型有變與對(duì)照品同法處理后比對(duì)
C.輔料有干擾,晶型不變?cè)谥讣y區(qū)選擇3~5個(gè)特征譜帶波數(shù)允差為0.5%
D.輔料有干擾,晶型有變直接與標(biāo)準(zhǔn)光譜比對(duì)
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A.紅外實(shí)驗(yàn)室應(yīng)保持干燥,防止儀器受潮而影響使用壽命,相對(duì)濕度應(yīng)在65%以下
B.樣品的研磨要在紅外燈下進(jìn)行,防止樣品吸水
C.壓片用的模具用后應(yīng)立即把各部分擦干凈,必要時(shí)用水清洗干凈并擦干,置干燥器中保存,以免銹蝕
D.壓片用KBr應(yīng)符合藥典規(guī)定要求,使用前可置烘箱中干燥以除去水分并研細(xì)
A.固定相種類
B.色譜柱長(zhǎng)度
C.流動(dòng)相中各組分比例
D.流動(dòng)相組分
E.檢測(cè)器類型
A.達(dá)到規(guī)定的理論板數(shù)
B.固定相和流動(dòng)相比例適當(dāng)
C.分離度R應(yīng)大于1.5
D.色譜峰拖尾因子T應(yīng)符合品種項(xiàng)下規(guī)定
E.流動(dòng)相的流速應(yīng)大于1mL/min
A.3100—3000cm-1
B.3000—2700cm-1
C.1950—1650cm-1
D.1600—1450cm-1
E.880—680cm-1
A.IR法
B.GC法
C.HPLC法
D.TLC法
E.UV法
最新試題
微生物培養(yǎng)基的適用性檢測(cè)項(xiàng)目中不包括以下哪項(xiàng)()
藥品生產(chǎn)工藝研究范圍一般包括()
藥學(xué)一致是一致性評(píng)價(jià)的基石,產(chǎn)品質(zhì)量主要受以下哪些因素影響()
關(guān)于藥物警戒部門的職責(zé),正確的是()
變更制劑生產(chǎn)工藝,研究工作應(yīng)綜合考慮()
做出決策并實(shí)施措施,以便降低風(fēng)險(xiǎn)或把風(fēng)險(xiǎn)維持在規(guī)定水平,屬于下列哪個(gè)過程()
中藥切制工藝不包括()
以下選項(xiàng)中屬于固體片劑關(guān)鍵質(zhì)量屬性的有()
濕熱過度殺滅法通常用于何種材料/產(chǎn)品的最終處理()
以下哪些是GMP自檢/審計(jì)的要求()