判斷題

光致抗蝕劑在曝光前對某些溶劑是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物質(zhì)，這一類抗蝕劑稱為負性光致抗蝕劑，由此組成的光刻膠稱為負性膠。（）

答案：正確

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半導體芯片制造工藝對水質(zhì)的要求一般.（）

答案：錯誤

離子源是產(chǎn)生離子的裝置。（）

答案：正確