碳四裝置回流罐頂去低壓調(diào)節(jié)閥是（）

氣溫升高時，氣體分餾裝置在操作上應(yīng)（）

碳四裂解加熱爐烘爐的目的是（）

“水擊”消除方法根本指導(dǎo)思想是（）

進(jìn)萃取裝置原料中異丁烷含量過高有利于提高（）

碳四裝置反應(yīng)器原料來自于（）

物料未退凈會對停工產(chǎn)生（）影響。

脫乙烷塔循環(huán)建立時，塔頂冷卻器循環(huán)水開的過大，會出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

液化氣引進(jìn)塔后，趕氮?dú)饨Y(jié)束，塔底通熱源以后，會發(fā)生塔底液面急速下降，此時這些液態(tài)烴原料到（）去了。

氣體分餾裝置處理量頻繁變化時，實(shí)際是氣體分餾裝置的（）頻繁被打破。