A.Loshek法
B.Thoma法
C.Chui法
D.Clarkson法
E.Day法
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你可能感興趣的試題
A.原射線的離軸比
B.射野邊界因子
C.射野的對(duì)稱性
D.射野的平坦度
E.射野的均質(zhì)性
A.散射空氣比
B.最大組織空氣比
C.反散因子
D.標(biāo)準(zhǔn)組織空氣比
E.平均組織空氣比
A.1.5r
B.1.8r
C.2r
D.2.5r
E.2.8r
A.模體表面下
B.模體中心
C.模體表面
D.模體表面下射野中心軸上最大劑量點(diǎn)處
E.模體后緣
A.標(biāo)準(zhǔn)模體
B.均勻模體
C.替代模體
D.水模體
E.組織填充模體
A.高LET;高RBE;高OER
B.高LET;高RBE;低OER
C.高LET;低RBE;高OER
D.高LET;低RBE;低OER
E.低LET;高RBE;高OER
A.質(zhì)子
B.快中子
C.π負(fù)介子
D.氮離子
E.氖離子
A.減少葉片間漏射線
B.減少葉片端面間的漏射
C.減小幾何半影
D.減小散射半影
E.減小穿射半影
A.檢測(cè)X射線
B.監(jiān)測(cè)電子束的劑量率
C.監(jiān)測(cè)積分劑量
D.監(jiān)測(cè)射野的平坦度
E.監(jiān)測(cè)射野的對(duì)稱性
A.1:2條件
B.1:1條件
C.2:1條件
D.3:1條件
E.1:3條件
最新試題
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
對(duì)鈷60機(jī)射野的對(duì)稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。
隨能量增大,光電效應(yīng)發(fā)生的概率迅速減小。
α/β不僅代表了細(xì)胞存活曲線的曲度,也代表了細(xì)胞對(duì)亞致死損傷的修復(fù)能力。
百分深度劑量受照射野面積的影響。
射野中心軸上百分深度劑量值的大小直接反應(yīng)了射線質(zhì)(能量)的高低。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí),應(yīng)采用雙平面插植。
人體曲面校正的組織空氣比法或組織最大劑量比方法的修正因子CF的表達(dá)式是()。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱分別為QA、QC。
對(duì)重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。