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JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線上且間距不大于2mm時,按一條磁痕處理,其長度為兩條磁痕之和加間距。
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JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時應(yīng)用2~10倍放大鏡進(jìn)行觀察。
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熒光磁粉檢測時,磁痕的評定應(yīng)在暗室或暗處進(jìn)行,暗室或暗處可見光照度應(yīng)不小于20Lx。
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