A.雷達(dá)法
B.電磁誘導(dǎo)法
C.單一反射法
D.重復(fù)反射法
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.主機(jī)
B.支架
C.法蘭把手
D.落下球體
A.遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于
B.大致相當(dāng)
C.小于
D.不確定
A.落地支架法施工
B.采用掛籃施工
C.采用托架法施工
D.滿堂支架法
A.樁身完整
B.樁身有輕微缺陷,不會影響樁身結(jié)構(gòu)承載性能的正常發(fā)揮
C.樁身有明顯缺陷,對樁身結(jié)構(gòu)承載性能有影響
D.樁身存在嚴(yán)重缺陷
A.0.5Mpa
B.0.6Mpa
C.0.7Mpa
D.0.8Mpa
最新試題
產(chǎn)品焊接接頭最終質(zhì)量經(jīng)X射線檢驗(yàn)合格后不得再實(shí)施影響接頭性能的加工(如校形、修刮、重熔等),否則應(yīng)重新申請進(jìn)行X射線檢測。
底片或電子圖片、X射線照相檢驗(yàn)記錄、射線檢測報(bào)告副本、檢測報(bào)告等及臺帳由X光透視人員負(fù)責(zé)管理。
X光檢驗(yàn)組按復(fù)查清單組織復(fù)查,并出具X光底片復(fù)查報(bào)告,復(fù)查無遺留問題方可進(jìn)行試壓。
X射線檢驗(yàn)人員負(fù)責(zé)對需排除的超標(biāo)缺陷實(shí)施定位、做好相應(yīng)標(biāo)注,確保定位準(zhǔn)確。
底片圖像質(zhì)量參數(shù)中的顆粒度與膠片的粒度是同一概念。
像質(zhì)計(jì)放置次數(shù)一般應(yīng)與透照次數(shù)相同,相同部位、相同的透照條件連續(xù)透照時(shí)可適當(dāng)減少放置次數(shù).但不少于透照次數(shù)的三分之一。
一次完整的補(bǔ)焊過程中缺陷是否排除X光透照確認(rèn)可以不限次數(shù),直至缺陷完全排除。
對于圓柱導(dǎo)體的外通過式線圈,其阻抗變大的情況有()
補(bǔ)焊次數(shù)的界定由工藝、檢驗(yàn)負(fù)責(zé),對兩個(gè)補(bǔ)焊區(qū)交界部位補(bǔ)焊次數(shù)的界定,需要通過底片觀察提供幫助時(shí),X光室應(yīng)予以配合。
在射線照相檢驗(yàn)中,隨著射線能量的提高,得到的圖像不清晰度也將增大。