下列哪種因素不是影響紅外光譜譜峰位置的影響因素（）

在光電子能譜圖中，出現(xiàn)在主光電子峰高動能端的伴峰可能是（）

對于化學價態(tài)相同的原子，俄歇化學位移的差別主要和原子間的電負性差有關。

俄歇過程和熒光過程是兩個競爭的過程。

影響X射線連續(xù)譜總強度的因素包括（）。

俄歇電子的化學位移較光電子更敏感。

分子的振動或轉動能夠吸收輻射光子能量，相應的光譜成為吸收光譜。

相鄰元素或基團的電負性越強，俄歇電子的化學位移越大。

光電子譜峰由哪幾個參數(shù)來標記（）

表面與界面成分分析的手段有（）