多項(xiàng)選擇題在氧氯化平衡法VCM裝置中,用于處理三廢的裝置有()
A.廢水汽提塔
B.氧氯化反應(yīng)器
C.焚燒爐
D.冷火炬
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1.多項(xiàng)選擇題在平衡氧氯化法VCM裝置中,廢液和廢氣焚燒后,生成()
A.C2H4
B.CO2
C.HCl
D.H2O
2.多項(xiàng)選擇題在平衡氧氯化法VCM裝置中,焚燒單元處理的物料有()
A.高沸物
B.干廢氣
C.廢渣
D.濕廢氣
3.多項(xiàng)選擇題在平衡氧氯化法VCM裝置中,VCM塔底的循環(huán)EDC氯化主要是指()的氯化。
A.EDC
B.氯丁二烯
C.苯
D.三氯乙烯
4.多項(xiàng)選擇題EDC裂解汽化器進(jìn)料EDC經(jīng)過()預(yù)熱后進(jìn)入汽化器。
A.裂解爐輻射段
B.EDC預(yù)熱器
C.裂解爐對(duì)流段
D.EDC過熱器
5.多項(xiàng)選擇題在VCM裝置中,下列屬于低沸物的有()
A.二氯乙烷
B.三氯乙烷
C.氯丁二烯
D.苯
最新試題
EDC裂解爐進(jìn)料低沸含量高,對(duì)裂解爐影響是()
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