強制對流是自流體因溫度或濃度所產生的密度差所導致的。

吸附平衡關系由吸附過程的方向和極限決定的，是吸附過程的基本依據。

溫度的高低不必用數字來說明，溫標是溫度的數值表示方法。

人們通常把能夠從密閉容器中排出氣體或使容器中的氣體分子數目不斷減少的設備稱為真空獲得設備或真空泵。

空氣中鉑的使用溫度為1500℃，能在氧分壓等于0.1MPa 下使用。

在CVD 技術中反應劑在室溫或不太高的溫度下最好是氣態(tài)或有較高的蒸氣壓而易于揮發(fā)成蒸汽的液態(tài)或固態(tài)物質，且有很高的純度。

活性炭對物質的吸附是對極性基團少的化合物的吸附力大于極性基團多的化合物。

紅外輻射溫度計測量范圍是600至1600℃，基本誤差≤±10℃。

界面張力的大小反映界面熱力學的穩(wěn)定性。

反應氣體或生成物通過邊界層，是以擴散的方式來進行的，而使氣體分子進行擴散的驅動力，則是來自于氣體分子局部的濃度梯度。