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單項選擇題
刻蝕氮化硅薄膜時，可以用加熱的磷酸進(jìn)行刻蝕，此時的溫度一般設(shè)置在（）
A.70～100℃
B.130～150℃
C.150～170℃
D.170～200℃
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    一般情況下，刻蝕完成后需要進(jìn)行的操作是（）
    A.曝光
    B.涂膠
    C.去膠
    D.顯影
  • 多項選擇題
    最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）
    A.硫酸
    B.氫氟酸
    C.雙氧水
    D.去離子水
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