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由于紫激光具有高光學(xué)分辨率和發(fā)光波長處在傳統(tǒng)化學(xué)感光材料感光波長范圍內(nèi)等特點(diǎn),紫激光光源非常適合于感光性高分子材料的直接掃描曝光。
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