A.Ctrl+Alt+鼠標的左鍵在時間軸拖拽
B.Ctrl+Alt+鼠標的中鍵在時間軸拖拽
C.Ctrl+Alt+鼠標的右鍵在時間軸拖拽
D.[時間配置(TimeConfiguration)]
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A.設置背景顏色
B.設置背景動畫
C.為場景添加鏡頭效果
D.為場景添加大氣效果
A.[對數(shù)曝光控制(LogarithmicExposureControl)]相比[線性曝光控制(LinearExposureControl)]的效果會更加柔和
B.[對數(shù)曝光控制(LogarithmicExposureControl)]相比[線性曝光控制(LinearExposureControl)]會更不容易產(chǎn)生曝光的效果
C.[對數(shù)曝光控制(LogarithmicExposureControl)]相比[線性曝光控制(LinearExposureControl)]對比會更強烈
D.[對數(shù)曝光控制(LogarithmicExposureControl)]相比[線性曝光控制(LinearExposureControl)]更適合制作動畫
下面是[光能傳遞(Radiosity)]求解計算的3個步驟,他們的渲染流程是()
①定義處理參數(shù);
②進行光能傳遞求解;
③優(yōu)化光能傳遞處理。
A.123
B.132
C.231
D.321
A.[光線/采樣數(shù)(Rays/Sample)]
B.[過濾器(Filter)]
C.[全局倍增(GlobalMultiplier)]
D.[反彈(Bounces)]
A.[公用(Common)]、[渲染器(Renderer)]、[高級照明(AdvancedLighting)]和[光線跟蹤器(Raytracer)]四部分
B.[渲染器(Renderer)]、[高級照明(AdvancedLighting)]、[公用(Common)]三部分
C.[公用(Common)]、[渲染器(Renderer)]、[渲染元素(RendererElements)]、[光線跟蹤器(Raytracer)]四部分
D.[公用(Common)]、[渲染器(Renderer)]、[渲染元素(RendererElements)]、[光線跟蹤器(Raytracer)]和[高級照明(AdvancedLighting)]五部分
最新試題
要刪除某個修改器,首先要選擇該修改器,然后右鍵單擊列表中,選擇刪除。
歸檔場景,是一個比較實用的功能,使用這個功能可以將創(chuàng)建好的場景、場景位圖以及貼圖路徑保存為一個zip格式的壓縮包。
當前活動的視圖帶有紅色線框。
視圖操作產(chǎn)生的大小、位置等變化,不會影響到場景對象的大小和位置。
封閉二維圖形之間,肯定能夠進行布爾運算。
只要調整頂點的參數(shù)及樣條線的參數(shù),就可以生成復雜的二維圖形。
如果想要刪除某個修改器,可以在選中某個修改器后按delete鍵。
對視圖進行縮放,會影響到場景中對象的大小。
如果想要刪除某個修改器,不可以在選中某個修改器后按delete鍵,那樣刪除的將會是物體本身,而并非單個的修改器。
樣條線形狀主要是在“頂點”級別下進行調節(jié)。