填空題液態(tài)烴在工作環(huán)境中的最高允許濃度是()ppm。
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碳四裝置再生過程中需要()介質(zhì)進(jìn)行再生操作。
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脫乙烷塔循環(huán)建立時(shí),塔頂冷卻器循環(huán)水開的過大,會(huì)出現(xiàn)()現(xiàn)象。
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生產(chǎn)中允許塔盤有少量泄漏,但正常生產(chǎn)泄漏量不能超過()
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氣體分餾裝置處理量頻繁變化時(shí),實(shí)際是氣體分餾裝置的()頻繁被打破。
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氣分裝置分餾塔進(jìn)料口位置應(yīng)()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
碳四裝置切換反應(yīng)器作業(yè)前需要對(duì)待投用反應(yīng)系統(tǒng)進(jìn)行()
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對(duì)于氣體分餾裝置,在塔底溫度穩(wěn)定的情況下,一般塔頂壓力的控制方法是采用調(diào)節(jié)冷卻器的()溫度和調(diào)節(jié)回流量的方法來調(diào)節(jié)塔頂?shù)膲毫Α?/p>
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碳四裂解加熱爐烘爐的目的是()
題型:多項(xiàng)選擇題
換熱器中需要冷卻降溫的介質(zhì)走向一般為()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
碳四裂解裝置加熱反應(yīng)系統(tǒng)結(jié)焦危害是()
題型:多項(xiàng)選擇題