碳四裝置反應(yīng)器原料來自于（）

對(duì)于氣體分餾裝置，在塔底溫度穩(wěn)定的情況下，一般塔頂壓力的控制方法是采用調(diào)節(jié)冷卻器的（）溫度和調(diào)節(jié)回流量的方法來調(diào)節(jié)塔頂?shù)膲毫Α?/p>

生產(chǎn)中允許塔盤有少量泄漏，但正常生產(chǎn)泄漏量不能超過（）

換熱器中需要冷卻降溫的介質(zhì)走向一般為（）

萃取裝置進(jìn)料量增大后，操作上應(yīng)采?。ǎ┐胧?。

碳四裂解加熱爐烘爐的目的是（）

機(jī)泵中對(duì)液體做功的部件是（）

氣體分餾裝置處理量頻繁變化時(shí)，實(shí)際是氣體分餾裝置的（）頻繁被打破。

氣分裝置分餾塔進(jìn)料口位置應(yīng)（）

氣溫升高時(shí)，氣體分餾裝置在操作上應(yīng)（）