空氣中鉑的使用溫度為1500℃，能在氧分壓等于0.1MPa 下使用。

人們通常把能夠從密閉容器中排出氣體或使容器中的氣體分子數(shù)目不斷減少的設備稱為真空獲得設備或真空泵。

界面張力的大小反映界面熱力學的穩(wěn)定性。

MoSi2宜在低于1000℃下長時間使用。

高溫反應受熱容器包括玻璃容器、陶瓷容器、金屬容器等等。

吸附平衡關(guān)系由吸附過程的方向和極限決定的，是吸附過程的基本依據(jù)。

CVD 工藝希望反應氣體以湍流的形式流動。

簡述熱電偶真空規(guī)測量原理。

簡述雜質(zhì)對擴散的影響。

活性炭對物質(zhì)的吸附是對極性基團少的化合物的吸附力大于極性基團多的化合物。