填空題

氧化層厚度的測量方法主要有：（）。

答案：比色法、橢圓偏振儀測試法、臺階測試、相干光波長差測量、擴展電阻測試、掃描電鏡測量

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氧化時（）稱為分凝效應。B在氧化硅中的含量高于Si襯底中的含量，分凝系數(shù)（）1；P、As在氧化硅中的含量低于Si襯底中含量，分凝系數(shù)（）1。

答案：硅中的雜質(zhì)濃度與SiO₂中濃度出現(xiàn)差別的現(xiàn)象；小于；大于

Si襯底上熱氧化的機理由（）模型確定。氧化反應的快慢與三個因素有關，即：（）。氧化層厚度的理論計算公式為：式中A、B為與擴散率成正比的常數(shù)，τ為由（）決定的時間修正系數(shù)。

答案：迪爾－格羅夫；溫度、氧化劑濃度和表面電勢；初始厚度