多項選擇題鳥嘴效應造成的不良影響有（）。
A.有效柵寬變窄
B.電流減少
C.電容增加
D.電阻增大
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1.多項選擇題消除鳥嘴效應的方法有（）。
A.選擇合適的掩蔽膜
B.在氧化前，將窗口處的硅腐蝕掉深度，再進行局部氧化
C.退火
D.高壓氧化工藝
2.單項選擇題濕氧氧化采用的氧化水溫是（）。
A.95度
B.90度
C.80度
D.75度
3.單項選擇題硅暴露在空氣中，在室溫下即可產生二氧化硅層，厚度約為（）。
A.30nm
B.10nm
C.20nm
D.25nm
4.單項選擇題下面哪個選項不是集成電路工藝用化學氣體質量的指標？（）
A.金屬離
B.微粒
C.純度
D.濃度
5.單項選擇題如下哪個選項不是半導體器件制備過程中的主要污染物？（）
A.化學物質
B.金屬離子
C.融解的氧氣
D.細菌