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問答題
【簡答題】簡述真空蒸鍍的原理。
答案:
(1)加熱蒸發(fā)過程,蒸發(fā)材料由凝聚相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀唷?br/>(2)氣化原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間輸運(yùn)。
(3)蒸...
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答案:
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判斷題
CVD 工藝是在較低壓力和較底溫度下進(jìn)行的,不僅用來增密炭基材料,還可增強(qiáng)材料斷裂強(qiáng)度和抗震性能。
答案:
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