問答題PN結(jié)二極管的特性是什么？PN結(jié)的空間電荷區(qū)與內(nèi)建電場(chǎng)是如何形成的？空間電荷區(qū)為什么是高阻的？
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光刻工藝的特點(diǎn)包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
下面哪個(gè)選項(xiàng)不是集成電路工藝用化學(xué)氣體質(zhì)量的指標(biāo)？（）
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進(jìn)行溝槽填充常用的金屬材料是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
進(jìn)行光刻工藝前的清洗步驟是（）。
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摻雜后退火時(shí)間一般在（）。
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注入損傷與注入離子的以下哪個(gè)參數(shù)無關(guān)？（）
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三光檢查主要是檢查芯片粘貼和引線焊接之后有無各種廢品。
題型：判斷題
碳納米管場(chǎng)效應(yīng)晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢(shì)之一。
題型：判斷題