造成相同的x射線機(jī)曝光曲線不完全相同的原因是什么？

有一個(gè)變量對渦流和磁場狀態(tài)的變化發(fā)生影響，線圈的輸出信號實(shí)際上是由這個(gè)變量產(chǎn)生的。這個(gè)變量是（）。

有一臺(tái)×光機(jī)，在×光機(jī)背面距焦點(diǎn)1米處的射線照射率為8.35mR/h，以每天工作8小時(shí)計(jì)，在不超過每天16.7毫雷姆時(shí)，放射人員的安全距離是多少？

分析底片上出現(xiàn)白色（黑度低于周圍焊縫或母材的黑度）缺陷影像的原因？

圖所示的標(biāo)準(zhǔn)試件可用來測定（）。

通過一次線圈的交流電產(chǎn)生一個(gè)磁場并在棒材中產(chǎn)生渦流，二次線圈的電壓取決于（）。

什么是實(shí)際焦點(diǎn)和有效焦點(diǎn)？x射線機(jī)說明書給出的是哪個(gè)焦點(diǎn)？焦點(diǎn)尺寸如何計(jì)算？

頻率比在什么條件下，表面下裂紋的信號振幅增大（）。

簡述滲透探傷方法的選擇原則。

當(dāng)激勵(lì)電壓加于一次繞組時(shí)，只有磁通量是同相的，且二次磁通量較小。當(dāng)試驗(yàn)物體插入該線圈時(shí)，將發(fā)生什么情況（）。