A.因要精確測定不同濃度二氧化硅顯色液的含硅量時,需先用無硅水沖洗比色皿2~3次后再測定;
B.如果按濃度由小到大的次序測定時,則可不沖洗比色皿而直接測定,這時引起的誤差不會超過儀器的基本誤差;
C.測定倒藥液時,則需增加沖洗次數(shù),否則不易得到準(zhǔn)確數(shù)值;
D.測定倒藥液時,可以不必增加沖洗次數(shù)就可以得到準(zhǔn)確數(shù)值。
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A.在酸洗過程中,同時存在著兩個化學(xué)反應(yīng)過程,一是HCl對水垢的溶解;二是HCl對金屬基體的腐蝕;
B.加入緩蝕劑的目的就是最大限度地加速水垢的溶解;
C.加入緩蝕劑的目的就是最大限度地減緩水垢的溶解;
D.加入緩蝕劑的目的就是最大限度地減緩清洗過程中對金屬基體的腐蝕。
A.正確地取樣,并使水樣具有代表性;
B.確保水樣不受污染,并在規(guī)定的可存放時間內(nèi),做完分析項(xiàng)目;
C.確認(rèn)分析儀器準(zhǔn)確可靠并正確使用;
D.掌握分析方法的基本原理和操作,正確地進(jìn)行分析結(jié)果的計(jì)算和校核。
A.同離子效應(yīng)對溶液電導(dǎo)率的影響;
B.溫度對溶液電導(dǎo)率的影響;
C.電導(dǎo)池電極極化對電導(dǎo)率測定的影響;
D.樣品中可溶性氣體對溶液電導(dǎo)率測定的影響。
A.方法誤差這是由于分析方法本身的誤差;
B.偶然誤差是由某些難以控制、無法避免的偶然因素所造成的誤差;
C.儀器誤差這是使用的儀器不符合要求所造成的誤差;
D.操作誤差這是指在正常操作條件下,由于個人掌握操作規(guī)程與控制操作條件稍有出入而造成的誤差。
A.水垢的組成一般比較復(fù)雜,是由許多化合物組成的一般用質(zhì)量分?jǐn)?shù)表示水垢的化學(xué)成分;
B.水垢按其主要化學(xué)成分分成:鈣鎂水垢、硅垢、磷酸鹽垢、鐵垢和銅垢等;
C.因傳熱不良而導(dǎo)致管壁溫度升高;
D.引起或促進(jìn)熱力設(shè)備的腐蝕,使鍋爐水循環(huán)惡化,甚至導(dǎo)致爆管而停爐。
最新試題
鼓風(fēng)式除碳器不僅可以除去水中的CO2,而且可以除去水中的O2。
在氫氣系統(tǒng)查漏時,可選用肥皂水、氣體防爆檢測儀或蠟燭明火檢查。
在離子交換器再生水平一定的情況下,交換器內(nèi)的交換劑層愈高,交換劑的工作交換容量愈大。
在水流經(jīng)過濾池的過程中,對水流均勻性影響最大的是排水系統(tǒng)。
H型強(qiáng)酸陽離子交換樹脂對水中離子的交換具有選擇性,其選擇性的規(guī)律是離子電導(dǎo)率愈高,愈易交換。
除硅必須用強(qiáng)堿性陰離子交換樹脂。
陰陽床再生時,再生劑加得越多越好。
當(dāng)強(qiáng)酸、堿濺到皮膚上時,應(yīng)先用大量清水沖洗,再分別用5mg/L的碳酸氫鈉或10~20mg/L的稀醋酸清洗,然后送醫(yī)院急救。
長期停備的機(jī)組必須進(jìn)行停用保護(hù),短期停備機(jī)組可視情況不進(jìn)行保護(hù)。
凡是含氧元素的化合物都叫氧化物。