問答題

制造半導體元件時,常常需要測定硅片上的二氧化硅薄膜的厚度.可以將二氧化硅薄膜的一部分腐蝕掉,露出一個傾斜的劈尖膜.用波長為589.3nm的鈉光垂直照射,觀察到如圖所示的條紋.已知硅的折射率為3.42,二氧化硅的折射率n=1.52,計算此氧化層的厚度d.


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