問(wèn)答題簡(jiǎn)述MR機(jī)產(chǎn)生化學(xué)位移偽影如何排除。
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2.問(wèn)答題簡(jiǎn)述MR機(jī)產(chǎn)生化學(xué)位移偽影的原因。
4.問(wèn)答題簡(jiǎn)述CT機(jī)的接觸性故障的發(fā)生原因。
5.問(wèn)答題簡(jiǎn)述CT機(jī)的接觸性故障的特點(diǎn)。
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