p型襯底材料的MOS管，其半導(dǎo)體的摻雜濃度增大，閾值電壓隨之增大。

半導(dǎo)體具有的負(fù)的溫度系數(shù)的發(fā)現(xiàn)年份是（）年。

半導(dǎo)體襯底材料與柵極材料之間的逸出功差變化范圍較小。

“合金型晶體管”，“平面型晶體管”和“外延型晶體管”這三種晶體管中，目前生產(chǎn)最主要的一種是（）。

晶體管的全部應(yīng)用模式中，共有（）種放大倍數(shù)。

雙極型晶體管使用中，電流最大的極是（），電流最小的極是（）。

N溝增強型MOS管襯底材料是N型摻雜半導(dǎo)體。

柵極材料與半導(dǎo)體材料的功函數(shù)差會因半導(dǎo)體材料的摻雜濃度變化而變化。

理想的MOS管，柵極加上偏壓之后，溝道表面將產(chǎn)生一定厚度的耗盡層。

絕緣層材料的厚度會對MOS管的閾值電壓產(chǎn)生影響。