化學合成反應沉積是由兩種或兩種以上的反應原料氣在沉積反應器中相互作用合成得到所需要的無機薄膜或其它材料形式的方法。

簡述真空蒸鍍的原理。

界面張力的大小反映界面熱力學的穩(wěn)定性。

空氣中鉑的使用溫度為1500℃，能在氧分壓等于0.1MPa 下使用。

簡述雜質對擴散的影響。

利用熱電偶的電勢與加熱元件的溫度有關，元件的溫度又與氣體的熱傳導有關，熱傳導量又與壓力成反比的原理來測量真空度的真空計。

簡述特殊活性原料的獲得方法及效果。

高壓合成，就是利用外加的高壓力，使物質產生多型相變或發(fā)生不同物質間的化合，而得到新相、新化合物或新材料。

MoSi2宜在低于1000℃下長時間使用。

強制對流是自流體因溫度或濃度所產生的密度差所導致的。