單項選擇題納米復(fù)合電刷鍍工藝中，納米粒子與金屬離子一同沉積在工件表面需要的條件是（）
A.陰極表面發(fā)生還原反應(yīng)
B.陽極表面發(fā)生還原反應(yīng)
C.陽極表面發(fā)生氧化反應(yīng)
D.陰極表面發(fā)生氧化反應(yīng)
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1.單項選擇題現(xiàn)代集成電路制造中，用于改變硅半導(dǎo)體的導(dǎo)電特性的一種表面改性技術(shù)，采用的是（）
A.電子束
B.離子束
C.激光束
D.熱噴涂
2.單項選擇題光刻加工原理與印刷技術(shù)中的照相制版類似，基體材料是半導(dǎo)體（）
A.Ge
B.GaAs
C.SiO2
D.Si
3.單項選擇題熔融涂覆型3DP中成形材料為（）
A.熱固性
B.熱塑性
C.粉末性
D.光敏性
4.單項選擇題增材制造系統(tǒng)可以接受的易于分層切片處理的三角化文件格式為（）
A.STL
B.DWG
C.PDF
D.PRT
5.單項選擇題經(jīng)超精密磨削加工的零件其表面粗糙度通常（）
A.<0.005μm
B.<0.015μm
C.<0.025μm
D.<0.035μm