簡述特殊活性原料的獲得方法及效果。

界面張力的大小反映界面熱力學(xué)的穩(wěn)定性。

空氣中鉑的使用溫度為1500℃，能在氧分壓等于0.1MPa 下使用。

在CVD 技術(shù)中反應(yīng)劑在室溫或不太高的溫度下最好是氣態(tài)或有較高的蒸氣壓而易于揮發(fā)成蒸汽的液態(tài)或固態(tài)物質(zhì)，且有很高的純度。

人們通常把能夠從密閉容器中排出氣體或使容器中的氣體分子數(shù)目不斷減少的設(shè)備稱為真空獲得設(shè)備或真空泵。

在電離真空計(jì)中，電子在飛行路途中產(chǎn)生的正離子數(shù)，正比于氣體密度n，在一定溫度下正比于氣體的壓力p。因此，可根據(jù)離子電流的大小指示真空度。

簡述雜質(zhì)對擴(kuò)散的影響。

簡述玻璃真空系統(tǒng)漏氣的原因及防漏措施。

簡述熱電偶真空規(guī)測量原理。

吸附質(zhì)從流體主體通過分子與對流擴(kuò)散穿過薄膜或邊界層傳遞到吸附劑的外表面，稱之為外擴(kuò)散過程。