新的平坦化方法有哪幾個？（）

目前制備SOI材料的主流技術有幾種？（）

下面哪些元素屬于半徑較小的雜質原子？（）

進行光刻工藝前的清洗步驟是（）。

如下哪個選項不是半導體器件制備過程中的主要污染物？（）

刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結合來實現(xiàn)圖形的轉移？（）

當許多損傷區(qū)連在一起時就會形成連續(xù)的非晶層，開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為（）。

鳥嘴效應造成的不良影響有（）。

化學機械拋光液的主要成分不包括的是哪個？（）

厚膜電阻的成分，一是導體顆粒，二是（）。