問(wèn)答題描述電子回旋共振（ECR）。
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3.問(wèn)答題定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？
4.問(wèn)答題定義刻蝕速率并描述它的計(jì)算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？
5.問(wèn)答題刻蝕工藝有哪兩種類型？簡(jiǎn)單描述各類刻蝕工藝。
最新試題
離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？
題型：?jiǎn)柎痤}
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光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處？
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