例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個步驟。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

描述電子回旋共振（ECR）。