填空題常規(guī)硅集成電路平面制造工藝中光刻工序包括的步驟有()、()、()、()、()、()、()等。
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由硅片生產的半導體產品,又被稱為()。
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把半導體級硅的多晶硅塊,轉換成一塊大的單晶硅的過程,稱作()。生長后的單晶硅被稱為()。
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設計一個CMOS差分放大器電路,寫出其對應的SPICE描述語句并作差模電流-電壓特性分析。
題型:問答題
材料根據流經材電流的不同可分為三類()。
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根據圖,給出M2管的漏極電流表達式。
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版圖設計的基本前提是什么?
題型:問答題
在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),畫出Vx從一個大的正值下降時Ix的草圖。
題型:問答題
為提高CMOS集成電路的抗自鎖能力,可在版圖設計上采取哪些措施?
題型:問答題