填空題

設計與生產(chǎn)一種最簡單的硅雙極型PN結隔離結構的集成電路，需要（）、（）、（）、（）、（）、（）等六次光刻。

答案：埋層光刻；隔離光刻；基區(qū)光刻；發(fā)射區(qū)光刻；引線區(qū)光刻；反刻鋁電極

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常規(guī)集成電路平面制造工藝主要由（）、（）、（）、（）、（）等工藝手段組成。

答案：光刻；氧化；擴散；刻蝕；離子注入（外延、CVD、PVD）

濕法腐蝕的特點是（）、（）、（）、（）。

答案：選擇比高；工藝簡單；各向同性；線條寬度難以控制