編寫DRC版圖驗(yàn)證文件的主要依據(jù)是什么？

設(shè)計(jì)一個(gè)CMOS差分放大器電路，寫出其對(duì)應(yīng)的SPICE描述語(yǔ)句并作差模電流-電壓特性分析。

比較砷化鎵和磷化銦等襯底與硅襯底上的電感等效電路，試分析兩者存在差異的原因。

在圖中，若所有的晶體管都工作在飽和區(qū)，求M4的漏電流。

什么是電阻率？它的單位是什么（國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)單位制）？

說明MOS器件噪聲的來(lái)源、成因及減小方法。

集成電路電阻可以通過（）產(chǎn)生。

硅半導(dǎo)體工藝中的絕緣材料主要來(lái)源于硅自身產(chǎn)生的（）材料等。

MOS場(chǎng)效應(yīng)管（MOSFET）在20世紀(jì)70年代得到了廣泛的接受，從那時(shí)起到現(xiàn)在一直是集成電路的主流晶體管。MOSFET有兩類（）和（）。每種類型可由各自器件的多數(shù)載流子來(lái)區(qū)別。

半導(dǎo)體工藝技術(shù)中，器件互連材料通常包括（）等。