A.縱向磁化;
B.周向磁化;
C.高充填因數(shù)線圈磁化;
D.以上都不是
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A.縱向磁化;
B.軸向磁化;
C.向量磁化;
D.平行磁化
A.連續(xù)法;
B.剩磁法
A.剩磁法;
B.連續(xù)法
A.表面缺陷;
B.內(nèi)部缺陷;
C.表面和近表面缺陷;
D.以上都可以
A.芯棒法;
B.縱向通電法;
C.磁軛法;
D.觸頭法;
E.磁通貫通法;
F.A,C和E都是
最新試題
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:磁粉檢測(cè)時(shí)一般應(yīng)選用A1-60/100型標(biāo)準(zhǔn)試片。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:直流退磁法是將需退磁工件放入直流磁場(chǎng)中,逐漸減小電流至零。
磁懸液應(yīng)采用軟管沖淋或浸漬法施加于工件表面。
在不退磁的情況下,周向磁化產(chǎn)生的剩磁比縱向磁化產(chǎn)生的剩磁有更大的危害性。
濕法用磁粉粒度一般比干法小。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:剩磁應(yīng)不大于0.3mT(240A/m)。
剩磁法不能用于干法檢測(cè)。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時(shí)應(yīng)用2~10倍放大鏡進(jìn)行觀察。
一般說(shuō)來(lái),進(jìn)行了周向磁化工件的退磁,應(yīng)先進(jìn)行一次縱向磁化。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線上且間距不大于2mm時(shí),按一條磁痕處理,其長(zhǎng)度為兩條磁痕之和加間距。