問答題簡述位錯對材料性能的影響及無位錯單晶工藝的要點。
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最新試題
晶體管的全部應用模式中,共有()種放大倍數(shù)。
題型:填空題
MOS的輸出特性曲線中,給定的漏源電壓下漏源電流隨著柵極電壓的增大而增加。
題型:判斷題
理想的MOS管,柵極加上偏壓之后,溝道表面將產(chǎn)生一定厚度的耗盡層。
題型:判斷題
雙極型晶體管內部有()個極,()個區(qū),()個PN結。
題型:填空題
MOS管的閾值電壓是漏源之間的導電溝道出現(xiàn)強反型時的最小柵極電壓,即半導體的表面勢大于費米勢時的柵極電壓。
題型:判斷題
MOS管閾值電壓的單位是eV。
題型:判斷題
p型襯底材料的MOS管,其半導體的摻雜濃度增大,閾值電壓隨之增大。
題型:判斷題
“合金型晶體管”,“平面型晶體管”和“外延型晶體管”這三種晶體管中,目前生產(chǎn)最主要的一種是()。
題型:填空題
MOS管的轉移特性曲線指的是漏源電壓與漏源電流之間的關系曲線。
題型:判斷題
絕緣層材料質量影響MOS管的閾值電壓。
題型:判斷題