- 搜標(biāo)題
- 搜題干
- 搜選項(xiàng)
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】光刻的作用是什么？列舉兩種常用曝光方式。
答案：
光刻是集成電路加工過(guò)程中的重要工序，作用是把掩模版上的圖形轉(zhuǎn)換成晶圓上的器件結(jié)構(gòu)。
曝光方式：接觸式和非接觸式。
曝光方式：接觸式和非接觸式。
你可能感興趣的試題
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】掩模在IC制造過(guò)程中有什么作用？
答案：
任何半導(dǎo)體器件及IC都是一系列相聯(lián)系的基本單元的組合，如導(dǎo)體、半導(dǎo)體及在基片不同層上形成的不同尺寸的隔離材料等。要制作出...
