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問答題

【簡答題】給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

答案：投影掩膜版是一種透明的平板，在它上面有要轉印到硅片上光刻膠層的圖形。投影掩膜版只包括硅片上一部分圖形，而光掩膜版包含了整...

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【簡答題】光刻中采用步進掃描技術獲得了什么好處？

答案：

增大了曝光場，可以獲得較大的芯片尺寸，一次曝光可以多曝光些芯片，它還具有在整個掃描過程調節(jié)聚焦的能力。

【簡答題】解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？

答案：掃描投影光刻機的概念是利用反射鏡系統(tǒng)把有1：1圖像的整個掩膜圖形投影到硅片表面，其原理是，紫外光線通過一個狹縫聚焦在硅片...

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