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刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

解釋什么是暗場掩模板？

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個(gè)步驟。

敘述氮化硅的濕法化學(xué)去除工藝。

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。