問(wèn)答題簡(jiǎn)述幾種典型真空泵的工作原理。
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光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處？
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描述曝光波長(zhǎng)和圖像分辨率之間的關(guān)系。
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例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
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解釋什么是暗場(chǎng)掩模板？
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刻蝕工藝有哪兩種類型？簡(jiǎn)單描述各類刻蝕工藝。
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例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。
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定義刻蝕速率并描述它的計(jì)算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？
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給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？
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解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
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解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？
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