解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？

解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

光刻中采用步進掃描技術獲得了什么好處？

例舉離子注入設備的5個主要子系統(tǒng)。

描述電子回旋共振（ECR）。

哪種化學氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個步驟。

解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

光學光刻中影響圖像質量的兩個重要參數(shù)是什么？

解釋發(fā)生刻蝕反應的化學機理和物理機理。

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。