多項選擇題

二氧化硅膜的質量要求有（）。

A.薄膜表面無斑點
B.薄膜中的帶電離子含量符合要求
C.薄膜表面無針孔
D.薄膜的厚度達到規(guī)定指標
E.薄膜厚度均勻，結構致密

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多項選擇題

解決氧化層中的鈉離子沾污的方法有（）。

A.加強工藝操作
B.加強人體和環(huán)境衛(wèi)生
C.使用高純化學試劑、高純水和超凈設備
D.采用HCl氧化工藝
E.硅片清洗后，要充分烘干，表面無水跡

多項選擇題

二氧化硅層中的鈉離子可能來源于（）。

A.玻璃器皿
B.高溫器材
C.人體沾污
D.化學試劑
E.去離子水