A.負(fù)膠受顯影液的影響比較小 B.正膠受顯影液的影響比較小 C.正膠的曝光區(qū)將會(huì)膨脹變形 D.使用負(fù)膠可以得到更高的分辨率 E.負(fù)膠的曝光區(qū)將會(huì)膨脹變形
A.顯影液的溫度 B.顯影液的濃度 C.顯影液的溶解度 D.顯影液的化學(xué)成分
A.ARC可以是硅的氮化物 B.可用干法刻蝕除去 C.ARC膜可以通過(guò)PVD或者CVD的方法形成 D.ARC在刻蝕中也可做為掩蔽層 E.ARC膜也可以通過(guò)CVD的方法形成