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()是以物理的方法來進行薄膜沉積的一種技術(shù)。
A.LPCVD
B.PECVD
C.CVD
D.PVD
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物理氣相沉積簡稱()。
A.LVD
B.PED
C.CVD
D.PVD
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多項選擇題
薄膜沉積的機構(gòu)包括那些步驟()。
A.形成晶核
B.晶粒成長
C.晶粒凝結(jié)
D.縫道填補
E.沉積膜成長
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